廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負(fù)性光刻膠

• SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應(yīng)，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。
• 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格，具有優(yōu)異的分辨率、良好的對比度和高曝光靈敏度，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對光刻精度要求高的領(lǐng)域，如半導(dǎo)體器件制造。
• 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性。適用于有腐蝕風(fēng)險的光刻工藝，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。

松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田，全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)！青海LCD光刻膠多少錢

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題，提升行業(yè)生產(chǎn)效率，通過優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題，助力客戶降本增效。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%，密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù)，在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本，推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升。吉田半導(dǎo)體全流程解決方案，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。

1. 客戶需求導(dǎo)向
   支持特殊工藝需求定制，例如為客戶開發(fā)光刻膠配方，提供從材料選擇到工藝優(yōu)化的全流程技術(shù)支持，尤其在中小批量訂單中靈活性優(yōu)勢。
2. 快速交付與售后支持
   作為國內(nèi)廠商，吉田半導(dǎo)體依托松山湖產(chǎn)業(yè)集群資源，交貨周期較進(jìn)口品牌縮短 30%-50%，并提供 7×24 小時技術(shù)響應(yīng)，降低客戶供應(yīng)鏈風(fēng)險。
   性價比優(yōu)勢
   國產(chǎn)光刻膠價格普遍低于進(jìn)口產(chǎn)品 30%-50%，吉田半導(dǎo)體通過規(guī)�；�生產(chǎn)和供應(yīng)鏈優(yōu)化進(jìn)一步壓縮成本，同時保持性能對標(biāo)*品牌，適合對成本敏感的中低端市場及國產(chǎn)替代需求。
   政策與市場機(jī)遇
   受益于國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化趨勢，吉田半導(dǎo)體作為 “專精特新” 企業(yè)，獲得研發(fā)補貼及產(chǎn)業(yè)基金支持，未來在國產(chǎn)替代進(jìn)程中具備先發(fā)優(yōu)勢。

嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì)，吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。青海LCD光刻膠多少錢

1. 正性光刻膠（如 YK-300）
   應(yīng)用場景：用于芯片的精細(xì)圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。
   特點：高分辨率（可達(dá)亞微米級），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。
2. 負(fù)性光刻膠（如 JT-1000）
   應(yīng)用場景：用于功率半導(dǎo)體（如 MOSFET、IGBT）的制造，以及傳感器（如 MEMS）的微結(jié)構(gòu)成型。
   特點：抗蝕刻能力強(qiáng)，適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移，尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。
3. 納米壓印光刻膠（JT-2000）
   應(yīng)用場景：第三代半導(dǎo)體（GaN、SiC）芯片、量子點器件及微流控芯片的制造。特點：耐高溫（250℃）、耐酸堿，支持納米級精度圖案復(fù)制，降低芯片的制造成本。